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重磅!國(guó)產(chǎn)SiC襯底激光剝離實(shí)現(xiàn)新突破
發(fā)布時(shí)間:2023-05-26 05:14:18

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最近,泰科天潤(rùn)董事長(zhǎng)陳彤表示,國(guó)內(nèi)SiC單項(xiàng)目突破100萬(wàn)片的關(guān)鍵在于成本,即“碳化硅器件成本僅為硅器件的2倍”。

碳化硅器件降本需要全產(chǎn)業(yè)鏈的共同努力,其中碳化硅襯底成本占比高達(dá)50%左右,因此亟需新技術(shù)將成本“打下來(lái)”。碳化硅襯底降本主要存在兩大瓶頸,除了長(zhǎng)晶外,還有晶錠切割。目前,碳化硅襯底主流的切割技術(shù)包括砂漿線切割、金剛石線切割等,然而傳統(tǒng)切割技術(shù)的損耗率太高,而且工時(shí)太長(zhǎng)。

以砂漿線切割為例,多達(dá)40%的碳化硅晶錠以粉塵的形式浪費(fèi)掉,而且切割線的高速行走過(guò)程還會(huì)造成20-50μm的粗糙起伏與表面/亞表面結(jié)構(gòu)損傷,據(jù)分析,碳化硅多線切割技術(shù)的總材料損耗量高達(dá)30-50%。同時(shí),切制一塊6英寸SiC晶錠通常需要150個(gè)小時(shí)左右,不利于SiC襯底的快速交付。另外,切割后的襯底Ra值較大,還需要進(jìn)行粗磨、精磨和CMP三道處理工藝,合計(jì)耗時(shí)超過(guò)5。

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如果改用激光剝離技術(shù),則有望極大降低碳化硅襯底成本。激光剝離技術(shù)是通過(guò)激光處理,在碳化硅晶錠內(nèi)部形成改質(zhì)層,從而在碳化硅晶錠上剝離出晶圓。這種技術(shù)具有材料損耗低、加工效率高、出片數(shù)量多等優(yōu)勢(shì),總材料損耗率可降至30%-50%左右(視晶錠類(lèi)型而定)。

如果激光剝離技術(shù)成功應(yīng)用于碳化硅襯底的量產(chǎn),必將為碳化硅產(chǎn)業(yè)帶來(lái)輕資產(chǎn)、高效益的新模式,有望進(jìn)一步降低碳化硅器件成本,推動(dòng)碳化硅器件在更廣領(lǐng)域的應(yīng)用。

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碳化硅行業(yè)國(guó)外廠商已經(jīng)開(kāi)展長(zhǎng)達(dá)5年以上的激光剝離技術(shù)探索。截至目前,激光剝離技術(shù)未導(dǎo)入量產(chǎn)線,仍有一些技術(shù)挑戰(zhàn)需要解決。據(jù)“行家說(shuō)三代半”了解,西湖儀器在碳化硅襯底激光剝離技術(shù)上實(shí)現(xiàn)了突破,并且成功開(kāi)發(fā)了整套碳化硅襯底激光剝離設(shè)備,可直接投入生產(chǎn),為碳化硅襯底的生產(chǎn)提供了新型高效的解決方案。

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